Электроника и Полупроводники

Ультрачистая вода для производства пластин, очистки чипов и микроэлектронного производства

Производство полупроводников требует ультрачистой воды (UPW) с почти нулевым содержанием загрязнителей.

Mit Water разрабатывает системы UPW, включающие RO, EDI, УФ-окисление, мембранную дегазацию и полирующие смешанные слои. Наши решения обеспечивают стабильное удельное сопротивление 18,2 МОм·см и уровни TOC ниже ppb, необходимые для передового производства полупроводников.

Решения по водоподготовке

EDI (Электродеионизация) Системы финишной очистки Системы RO / NF Мембранная фильтрация (MF/UF/NF) УФ-стерилизация Двухслойный и смешанный деминерализатор Картриджный фильтр