Remoção avançada de íons

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A Mit Water fornece sistemas avançados de remoção de íons baseados em tecnologia de resina de troca iônica para remoção seletiva de contaminantes iônicos específicos de água e águas residuais. Estes sistemas são específicos sob medida para atingir especificações específicas de preocupação, incluindo metais pesados, nitrato, fluoreto, arsênico e outros contaminantes regulamentados.

Princípio de Funcionamento

A troca iônica é uma ocorrência química reversível onde íons em solução trocam com íons ligados a uma matriz de resina insolúvel. Dependendo do alvo contaminante, o sistema usa resinas catiônicas de ácido forte ou fraco, resinas aniônicas de base forte ou fraca, ou resinas quelantes com alta seletividade para metais específicos. O processo pode ser projetado como regeneração co-corrente ou contracorrente.

Configuração do sistema

Cada sistema avançado de remoção de íons inclui vasos de troca iônica com distribuidores e coletores internos, sistemas de regeneração e dosagem química, tanques de armazenamento intermediários e um painel de controle PLC. A seleção da resina, dimensionamento dos vasos e estratégia de regeneração específica são baseados na análise da água de alimentação e metas de qualidade da água tratada.

Os sistemas avançados de remoção de íons atendem às necessidades específicas de remoção de contaminantes:

  • Remoção de metais pesados ​​de águas residuais industriais (Ni, Cu, Zn, Pb, Cr, Cd, Hg)
  • Remoção de nitrato de águas subterrâneas para produção de água potável
  • Remoção de flúor de águas subterrâneas e de processos de mineração
  • Remoção de arsénico para abastecimento de água municipal e rural
  • Remoção de boro para água de irrigação e processos de semicondutores
  • Recuperação de metal da água de enxágue de galvanização e fluxos de processo

Parâmetros Técnicos

Vazão0.5 to 100 m3/h per unit
Tipo de resinasSAC, SBA, WAC, WBA, quelantes, resinas seletivas de nitrato/fluoreto
Vessel MaterialFRP, SS316L ou aço carbono revestido de borracha
Remoção Eficiência95% a 99,9%, dependente de contaminantes e resina
RegenerantsHCl, H2SO4, NaOH, NaCl (específico da resina)
Sistema de ControlePLC com sequenciamento de regeneração automática
ConfiguraçãoColuna única, lead-lag ou carrossel
Fonte de alimentação380V / 50Hz / 3-phase