Remoção avançada de íons

A Mit Water fornece sistemas avançados de remoção de íons baseados em tecnologia de resina de troca iônica para remoção seletiva de contaminantes iônicos específicos de água e águas residuais. Estes sistemas são específicos sob medida para atingir especificações específicas de preocupação, incluindo metais pesados, nitrato, fluoreto, arsênico e outros contaminantes regulamentados.
Princípio de Funcionamento
A troca iônica é uma ocorrência química reversível onde íons em solução trocam com íons ligados a uma matriz de resina insolúvel. Dependendo do alvo contaminante, o sistema usa resinas catiônicas de ácido forte ou fraco, resinas aniônicas de base forte ou fraca, ou resinas quelantes com alta seletividade para metais específicos. O processo pode ser projetado como regeneração co-corrente ou contracorrente.
Configuração do sistema
Cada sistema avançado de remoção de íons inclui vasos de troca iônica com distribuidores e coletores internos, sistemas de regeneração e dosagem química, tanques de armazenamento intermediários e um painel de controle PLC. A seleção da resina, dimensionamento dos vasos e estratégia de regeneração específica são baseados na análise da água de alimentação e metas de qualidade da água tratada.
Os sistemas avançados de remoção de íons atendem às necessidades específicas de remoção de contaminantes:
- Remoção de metais pesados de águas residuais industriais (Ni, Cu, Zn, Pb, Cr, Cd, Hg)
- Remoção de nitrato de águas subterrâneas para produção de água potável
- Remoção de flúor de águas subterrâneas e de processos de mineração
- Remoção de arsénico para abastecimento de água municipal e rural
- Remoção de boro para água de irrigação e processos de semicondutores
- Recuperação de metal da água de enxágue de galvanização e fluxos de processo
Parâmetros Técnicos
| Vazão | 0.5 to 100 m3/h per unit |
| Tipo de resinas | SAC, SBA, WAC, WBA, quelantes, resinas seletivas de nitrato/fluoreto |
| Vessel Material | FRP, SS316L ou aço carbono revestido de borracha |
| Remoção Eficiência | 95% a 99,9%, dependente de contaminantes e resina |
| Regenerants | HCl, H2SO4, NaOH, NaCl (específico da resina) |
| Sistema de Controle | PLC com sequenciamento de regeneração automática |
| Configuração | Coluna única, lead-lag ou carrossel |
| Fonte de alimentação | 380V / 50Hz / 3-phase |